四、 抛光
抛光的目的是除去细磨后留下的细微磨痕，使试样表面成为光滑无痕的镜面。常用的抛 光方法有机械抛光。 机械抛光的原理是利用抛光微粉的磨削、滚压作用，把金相试样表面抛成光滑的磨面。机械抛光在抛光机上进行。常用的抛光机上装有一个或多个电动盘（直径约为 200 — 250mm ），盘上铺以抛光布，由电动机带动的水平抛光盘的转速一般为 300 — 500 转 / 分。目前国产金相抛光机有单盘 P — 1 型、双盘 P — 2 型两种，均由电动机（ 0.18kW ）带动抛光盘旋转，转速为 350r/min 。抛光盘用铜或铝制成，直径为 200~ 250 mm 。机械抛光可分为粗抛与精抛两个步骤。粗抛的目的是尽快除去磨光时的变形层。常用的磨料为 10 — 20 m m 的 Al 2 O 3 、 Cr 2 O 3 或 Fe 2 O 3 微粉，加水配成悬浮液后使用。而精抛的目的是除去粗抛产生的变形层。常用抛光微粉的性能和用途见表 2-3 。 |
